Ja da der im Video beschriebene Chip zur Masken-Herstellung verwendet wird. Die Strukturen der Maske sind 20 Nanometer und werden bei der Belichtung im EUV-Gerät (bei TSMC etc.) optisch verkleinert auf den Wafer projiziert. Die Strukturen auf dem Wafer können somit im einstelligen Nanometer Bereich liegen.
Ziemlich spannende Sache. Danke für die Präsentation . Ermöglicht das Verfahren auch Produktion unterhalb der 20 Nanometer Grenze?
Ja da der im Video beschriebene Chip zur Masken-Herstellung verwendet wird. Die Strukturen der Maske sind 20 Nanometer und werden bei der Belichtung im EUV-Gerät (bei TSMC etc.) optisch verkleinert auf den Wafer projiziert. Die Strukturen auf dem Wafer können somit im einstelligen Nanometer Bereich liegen.
❤ims